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在現(xiàn)代精密測量領(lǐng)域，白光干涉儀猶如一雙超高分辨率的"電子眼"，能夠捕捉物質(zhì)表面微觀結(jié)構(gòu)的三維信息。這種基于光學干涉原理的儀器，以其亞納米級的測量精度，成為材料科學、精密制造和光學檢測等領(lǐng)域的重要工具。一、表面形貌的高清呈現(xiàn)白光干涉儀最核心的...
美國Microsense位移傳感器具有一系列顯著的特點，使其在各種應用場合中表現(xiàn)出色。以下是關(guān)于Microsense位移傳感器特點的一些詳細介紹：1.高準確性與靈敏性：該傳感器具備高準確性的測量能力，其高精度可達0.5nm，這使得它在需要精確測量的場合中表現(xiàn)出色。此外，它的高靈敏性也確保了即使在微小的位移變化下，也能產(chǎn)生明顯的信號響應。2.優(yōu)化的近距離測量：Microsense位移傳感器特別適用于近距離測量，其測量距離在10微米到5毫米之間，這使得它在微小物體或結(jié)構(gòu)的位移測量...
在精密制造、半導體、汽車涂裝等工業(yè)領(lǐng)域，膜層厚度的精準控制是決定產(chǎn)品質(zhì)量的核心要素之一。膜厚測量儀作為現(xiàn)代工業(yè)檢測的“火眼金睛”，憑借其高精度、高效率與智能化特性，已成為生產(chǎn)線上不可少的關(guān)鍵設備。本文將深入解析膜厚測量儀的核心優(yōu)勢、技術(shù)原理及快速安裝指南，助您掌握這一精密儀器的應用精髓。一、膜厚測量儀的核心優(yōu)勢??1.高精度與寬量程覆蓋??納米級分辨率??：采用光學干涉或X射線熒光技術(shù)，部分型號可達±0.1nm精度（如半導體光刻膠檢測）。寬范圍適配??：支持從納...
EVG510-晶圓鍵合機是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng)，可以處理從碎片到200mm的基板尺寸。該工具支持所有常見的晶圓鍵合工藝，例如陽極，玻璃粉，焊料，共晶，瞬態(tài)液相和直接法。易于使用的鍵合腔室和工具設計允許對不同的晶圓尺寸和工藝進行快速便捷的重新工具化，轉(zhuǎn)換時間不到5分鐘。EVG510-晶圓鍵合機特征：1.壓力和溫度均勻性。2.兼容EVG機械和光學對準器。3.靈活的設計和配置，用于研究和試生產(chǎn)。4.將單芯片形成晶圓。5.各種工藝(共晶，焊料，TLP，直接鍵合)。6.可選的渦輪...
Thetametrisis膜厚儀是一款快速、準確測量薄膜表征應用的模塊化解決方案，要求的光斑尺寸小到幾個微米，如微圖案表面，粗糙表面及許多其他表面。它可以配備一臺計算機控制的XY工作臺，使其快速、方便和準確地描繪樣品的厚度和光學特性圖。Thetametrisis膜厚儀利用FR-Mic，通過紫外/可見/近紅外可輕易對局部區(qū)域薄膜厚度，厚度映射，光學常數(shù)，反射率，折射率及消光系數(shù)進行測量。Thetametrisis膜厚儀使用優(yōu)勢：1、實時光譜測量。2、薄膜厚度，光學特性，非均勻性...
單面/雙面掩模對準光刻機支持各種標準光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對準方式。此外，該系統(tǒng)還提供其他功能，包括鍵合對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速處理和重新加工，以滿足不斷變化的用戶需求，轉(zhuǎn)換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念適合初學者到專家級各個階層用戶，非常適合大學和研發(fā)應用。EVG單面/雙面掩模對準光刻機特征：1、晶圓/基片尺寸從零碎片到200毫米/8英寸。2、臺式或獨立式帶防振花崗巖臺面。3、敏捷的處理和轉(zhuǎn)換重新加工。4、分步...