顯微鏡秒變光刻機(jī)！-- 顯微鏡LED曝光單元

電子顯微鏡和光刻機(jī)，兩個(gè)看上去風(fēng)馬牛不相及的東西，是如何結(jié)合到一起的？我們向您介紹一款無掩膜顯微鏡LED曝光單元UTA-3A-53M，能令顯微鏡秒變光刻機(jī)！

該設(shè)備是一種具有高性價(jià)比的曝光裝置，其DLP固定在顯微鏡的三目鏡部分，而照相機(jī)則固定在目鏡部分。可以將專用程序產(chǎn)生的圖案投影并在顯微鏡下曝光在樣品上。

＜特征＞ 

• 顯微鏡LED曝光單元UTA系列是用于光刻的無掩模圖案投影曝光設(shè)備。 

• 使用金屬顯微鏡和LED光源DLP投影儀，將分辨率為幾μm的任意圖案投影到涂有光刻膠的基板上進(jìn)行曝光。您可以在計(jì)算機(jī)上自由創(chuàng)建圖案。 

• 與電子束光刻相比，它更便宜，更容易，因?yàn)榭梢栽诳諝庵性诟鞣N大小和形狀的分層材料單晶薄片上形成電極。 不需要制造昂貴的電極圖案掩模。 

• 簡(jiǎn)單易懂專用軟件，可以輕松創(chuàng)建圖案

• 通過物鏡倍率，可以從精細(xì)圖案到進(jìn)行大范圍的批量曝光

• 也可以安裝到現(xiàn)有的顯微鏡上（顯微鏡的規(guī)格另需確認(rèn)）

曝光范圍：物鏡5X：約1.16×0.72mm / 物鏡100X：約60×35μｍ

通過標(biāo)配以下5種畫圖工具，畫任意圖案進(jìn)行曝光

                 直線       　　　矩形                   多邊形    　 　             圓  　　                     同心圓

或者通過讀取外部軟件畫好的圖案進(jìn)行曝光（分辨率1280*800，BMP格式，黑白）

＜應(yīng)用＞ 

? 薄膜FET的電極形成和空穴效應(yīng)測(cè)量樣品 

? 從原石的石墨烯鉬中取出剝離的（?。┢?，用于評(píng)估石特性的電極形成 

? 用于研發(fā)應(yīng)用的圖案形成 

? 光器件，微流控，微電子

☆曝光前可以進(jìn)行測(cè)試投影（因?yàn)槭羌t光，不會(huì)感光）

☆用白光曝光（曝光時(shí)間可以設(shè)置）